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二硅化鈷 Cobalt disilicide(CoSi2)
產(chǎn)品名稱:二硅化鈷(CoSi2) 規(guī)格:0.8-10um(D50)   形貌:不規(guī)則 顏色:黑灰色  特點(diǎn):電阻率低、良好的熱穩(wěn)定性 用途:大規(guī)模集成電路
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產(chǎn)品詳情
二硅化鈷 Cobalt disilicide(CoSi2)

產(chǎn)品名稱:二硅化鈷(CoSi2

規(guī)格:0.8-10um(D50)  

形貌:不規(guī)則

顏色:黑灰色 

特點(diǎn):電阻率低、良好的熱穩(wěn)定性

用途:大規(guī)模集成電路

 

中文名稱:硅化鈷

化學(xué)式:CoSi2

分子量:115.104

CAS號(hào):12017-12-8

EINECS號(hào):234-616-8

密度:5.3g/cm3

熔點(diǎn):1277℃

晶格常數(shù):a=0.535nm

晶系:立方系結(jié)晶

外觀:呈灰色的硅化物陶瓷粉末

溶解性:不溶于水

性質(zhì):低電阻率:在微電子中作為低阻接觸和互連的關(guān)鍵。高溫穩(wěn)定性與抗氧化性: 作為高溫涂層保護(hù)基材的核心能力。與硅工藝兼容性:易于通過(guò)自對(duì)準(zhǔn)硅化工藝集成到標(biāo)準(zhǔn)硅基集成電路制造中。良好的硅界面特性:形成歐姆接觸或肖特基接觸的能力。潛在的熱電性能:作為環(huán)境友好型熱電材料的候選者。高硬度與耐磨性: 作為耐磨涂層的潛力。

性質(zhì)與穩(wěn)定性:遵照規(guī)格使用和儲(chǔ)存則不會(huì)分解。CoSi2可與熱的鹽酸作用,溶于鹽酸,不溶于硫酸。能被王水、濃硝酸、強(qiáng)堿溶液及熔融的氫氧化堿和碳酸堿所侵蝕。可與硫化氫、氟化氫、氯化氫、氟、氯等發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。

合成方法:

按照CoSi2的化學(xué)組成比將鈷粉與硅粉混合均勻,在隔絕空氣的條件下將其熔融,并在1150℃的溫度下保溫100h,使其充分均質(zhì)化,產(chǎn)物為接近單一相的CoSi2。

用途:

1)硅化鈷(CoSi?)是金屬與半導(dǎo)體連接所廣泛所采用的材料,其作為半導(dǎo)體之基電極與金屬導(dǎo)線之間的連接(inter-connect)在器件中工作。

2)接觸與互連材料: 這是硅化鈷最重要和最廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。CoSi?具有相對(duì)較低的電阻率(約 18-25 μΩ·cm),與硅襯底有良好的歐姆接觸特性,并且可以通過(guò)自對(duì)準(zhǔn)硅化工藝形成。它常被用作MOSFET(金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)柵極、源極和漏極的接觸材料,以及局部互連材料,能有效降低接觸電阻和互連電阻,提高器件性能和集成度。

3)高溫抗氧化涂層

硅化鈷(尤其是CoSi?)具有很高的熔點(diǎn)和良好的高溫穩(wěn)定性。

它在高溫氧化環(huán)境下,表面能形成一層致密、粘附性好的二氧化硅保護(hù)膜,有效阻止氧氣向基體內(nèi)部擴(kuò)散,從而保護(hù)金屬或合金基體(如鈷基高溫合金、鉬、鈮等難熔金屬)免受高溫氧化和腐蝕。這使得它在燃?xì)廨啓C(jī)葉片、航空發(fā)動(dòng)機(jī)部件、高溫爐元件等需要極端環(huán)境防護(hù)的應(yīng)用中具有潛力。

4)熱電材料:

某些硅化鈷化合物(如Higher Manganese Silicides摻雜鈷,或特定的Co-Si相)被研究作為潛在的中溫區(qū)熱電材料。熱電材料能將熱(廢熱)直接轉(zhuǎn)化為電能。硅化鈷體系因其相對(duì)較高的熱電優(yōu)值、環(huán)境友好(不含昂貴或有毒元素如Te, Pb)和良好的熱穩(wěn)定性而受到關(guān)注。

包裝儲(chǔ)存:本品為充惰氣塑料袋包裝,密封保存于干燥、陰涼的環(huán)境中,不宜暴露空氣中,防受潮發(fā)生氧化團(tuán)聚,影響分散性能和使用效果;包裝數(shù)量可以根據(jù)客戶要求提供分裝。

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